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Issue Date | Title | Author(s) | Advisor(s) | Source |
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2013-10-23 | Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitude | Phan, Thanh Long | Lacoste, Ana, Prof. | University of Science and Technology - The University of Danang |