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http://tailieuso.udn.vn/handle/TTHL_125/7849
Full metadata record
DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.advisor | Lacoste, Ana, Prof. | - |
dc.contributor.author | Phan, Thanh Long | - |
dc.contributor.other | Pelletier, Jacques | - |
dc.date.accessioned | 2018-03-15T07:41:34Z | - |
dc.date.available | 2018-03-15T07:41:34Z | - |
dc.date.issued | 2013-10-23 | - |
dc.date.submitted | 2013-12-13 | - |
dc.identifier.uri | http://tailieuso.udn.vn/handle/TTHL_125/7849 | - |
dc.description | Thèse de doctorat. Spécialité : Physique appliquée; 229 pages | en |
dc.description.tableofcontents | 1. Introduction; 2. Modèles de gravure plasma; 3. Bibliographie des résultats expérimentaux de gravure des éléments; ... | en |
dc.language.iso | fr | en |
dc.publisher | Université De Grenoble, France | en |
dc.source | University of Science and Technology - The University of Danang | en |
dc.subject | Modèle de diffusion | en |
dc.subject | Semiconducteurs IV et III-V | en |
dc.subject | Gravure plasma | en |
dc.subject | Plasma micro onde | en |
dc.subject | Effets stériques | en |
dc.subject | Plasma d'halogènes | en |
dc.title | Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitude | en |
dc.title.alternative | Nghiên cứu cơ bản các cơ chế lý-Hóa của quá trình ăn mòn bằng plasma dựa trên các hiệu ứng không gian và khuếch tán. Các hành vi dự đoán của quá trình ăn mòn các chất bán dẫn cột IV và hợp chất III-V bằng halogens | en |
dc.type | Ph.D Thesis | en |
Appears in Collections: | Kỹ thuật |
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