Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitude

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DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	Lacoste, Ana, Prof.	-
dc.contributor.author	Phan, Thanh Long	-
dc.contributor.other	Pelletier, Jacques	-
dc.date.accessioned	2018-03-15T07:41:34Z	-
dc.date.available	2018-03-15T07:41:34Z	-
dc.date.issued	2013-10-23	-
dc.date.submitted	2013-12-13	-
dc.identifier.uri	http://tailieuso.udn.vn/handle/TTHL_125/7849	-
dc.description	Thèse de doctorat. Spécialité : Physique appliquée; 229 pages	en
dc.description.tableofcontents	1. Introduction; 2. Modèles de gravure plasma; 3. Bibliographie des résultats expérimentaux de gravure des éléments; ...	en
dc.language.iso	fr	en
dc.publisher	Université De Grenoble, France	en
dc.source	University of Science and Technology - The University of Danang	en
dc.subject	Modèle de diffusion	en
dc.subject	Semiconducteurs IV et III-V	en
dc.subject	Gravure plasma	en
dc.subject	Plasma micro onde	en
dc.subject	Effets stériques	en
dc.subject	Plasma d'halogènes	en
dc.title	Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma basés sur les effets stériques et de diffusion. Comportements prévisionnels de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V par les halogènes : lois de similitude	en
dc.title.alternative	Nghiên cứu cơ bản các cơ chế lý-Hóa của quá trình ăn mòn bằng plasma dựa trên các hiệu ứng không gian và khuếch tán. Các hành vi dự đoán của quá trình ăn mòn các chất bán dẫn cột IV và hợp chất III-V bằng halogens	en
dc.type	Ph.D Thesis	en
Appears in Collections:	Kỹ thuật

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